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瑞沃德 - 麻醉气体过滤罐(异氟烷、七氟烷)
用于吸附异氟烷、七氟烷和恩氟烷等气体,一次性使用;有大、小两种规格供选择,大号过滤罐饱和吸收增量200g(出厂重量800g),小号过滤罐饱和吸收增量50g(出厂重量300g)。在使用气体过滤罐
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CrossLab 多厂商仪器服务
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HASUC 真空干燥箱充HMDS气体
,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以
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HMDS基片预处理系统真空干燥箱HMDS-6090
,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以
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HASUC 带基片预处理系统真空烤箱HMDS
,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以
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HASUC 基片处理系统真空烤箱HMDS-6090
,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以
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EMGA-920 氧/氮分析仪
EMGA-920:氧/氮分析仪 原理 氧气:非分散红外探测器 氮:热导检测器(TCD) 测量范围*:氧气:0-5%,氮气:0-3% *通过降低样品重量可以达到100%的重量
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HASUC 基片预处理系统真空烤箱 HMDS-6210
光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点:1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器
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二甲基标记蛋白质组学技术
上不同的Dimethyl标签。Dimethy/SILACl除了标记方法的差别外,两种标记的质谱分析方法基本一致,而且具有相近的分析精度和广度,在定量蛋白组学分析研究中受到越来越广泛的运用。 二甲基
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CO2低温液化系统 厂商
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